现有的曝光机对基板的主体部分进行曝光,但是基板的边缘,特别是基板相对的两长边(在光阻涂布的起始端与末端位置)较容易形成光阻残留,从而导致后段部件所需要用到的对位图案被遮住,造成基板报废。为了解决此问题,现在普遍的做法为在主体曝光完成后增加一个边缘曝光的工艺,其主要功用为防止静电的产生及后段框胶贴附的质量,另一个功用就是去除基板四周的不必要的残留。及驱动装置,与该边缘曝光机和CCD影像处理器连接,该驱动装置根据该基板的偏移量驱动边缘曝光机移动,以补偿该偏移量。
公开了一种曝光显影设备及曝光显影方法,以解决光阻残留问题,且提高加工效率、降低生产成本。
本公开的额外方面和优点将部分地在下面的描述中阐述,并且部分地将从描述中变得显然,或者可以通过本公开的实践而习得。
东莞市清溪利成曝光显影
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